北京高纯99.99三氧化二铝AL2O3_纳米氧化铝光学镀膜材料氧化铝

北京高纯99.99三氧化二铝AL2O3 纳米氧化铝光学镀膜材料氧化铝
氧化铝粒，三氧化二铝颗粒 三氧化二铝纯度99.99％，高纯铝颗粒，高纯铝片，AAO专用铝箔片
化学符号：Al2O3
外 观:透明
规格：1-3Mm
纯度：4N
密度：4g/cm3
熔点：2045℃
沸点：2980℃
蒸发温度：1800℃
蒸发方式：电子束
透明范围/nm：200-7000
折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600)
基片温度为300℃时，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；
基片温度为40℃时， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；
蒸发源材料:W 、Mo
溶 解 于：纯酸、碱
薄膜的机械和化学性质：形成光滑的硬膜
性能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀；
高纯超细氧化铝的优点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结；
应用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜
用途：广泛应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料；
Al2O3膜的主要性能：
密度/g？cm-3:3.1-4.0
电 阻 率/Ω？cm：1012-1013
折 射 率：1.72-1.76
禁带宽度eV：7
介电常数：7.5-9.6
产生龟裂厚度/μm:0.4
介电强度/V？cm-1:1×106-7×106
表面负电荷密度：3×1011-1012
红外吸收峰/μm:14-16
Al2O3-Si界面密度/（cm2？eV）-1: 1010-1011
Al2O3分析报告:
MnCr Pb Ni V Nb
0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001
CoTa
0.001 0.001
二，主要产品
1.铝靶材99.99％~99.999％
常规尺寸：φ25.4*4mm；φ50.8*3Mm；φ76.2*5mm；φ100*3Mm，尺寸可定做
应用：磁控溅射镀膜，MEMS集成电路、LED封装等
2.铝颗粒99.99％~99.999％
常规尺寸：5N 3*3Mm；4N 6*6mm，尺寸可定做
应用：蒸发镀膜，合金熔炼，钢铁除氧剂等
3.铝箔片99.99％~99.999％
常规尺寸：厚度0.01mm；0.2mm等，尺寸可定做
应用：AAO阳极氧化铝，镀膜等
4.铝粉末99.7％~99.8％
常规尺寸：100目；-300目；325目；尺寸可定做
应用：粉末冶金等