国产芯片的崛起之路可谓是艰辛，但是成果确实有目共睹的。除了在芯片上面有了不少成就，在制造元件上也已经有了很多的技术成果。中微半导体的蚀刻机就是其中之一。
台积电的工艺路线，明年第三季度就要试产5nm工艺，这一代工艺会全面应用EUV光刻技术。除了光刻机之外，蚀刻机也是半导体工艺中不可缺少的一步，在这个领域中国半导体装备公司也取得了可喜的进步，中微半导体的5nm蚀刻机已经打入台积电的供应链。
几天前的临港新片区投资论坛上，中微半导体设备公司董事长兼首席执行官尹志尧提到了中微半导体现在的进展，中微半导体正在跟随台积电按照摩尔定律的发展走，后者的3nm工艺已经研发一年多了，预计2021年初就要试产。
中微半导体方面表示，自己正在跟着台积电的方向走，并且现在已经完成了5nm工艺的蚀刻机、MOCVD等设备，它们与光刻机一并被称为半导体工艺三大关键设备，而这里说的5nm指的是用于5nm工艺的等离子蚀刻机。
等离子体刻蚀机是芯片制造中的一种关键设备，用来在芯片上进行微观雕刻，每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到上万分之一，精度控制要求非常高。
半导体工艺的技术水平是由光刻机决定的，所以中微半导体做5nm蚀刻机并不等于能做5nm光刻，但是这个领域的进展依然意义重大，先进的蚀刻机售价也要数百万美元，而且一条生产线要使用很多台蚀刻机，总价值依然不可小觑。根据中微半导体的2019年上半年财报，该公司1-6月实现营收8.01亿元，同比增长72.03%；归属于上市公司股东的净利润3037.11万元，与上年同期相比扭亏为盈。
国产芯片的发展历程确实很艰辛，但是好在现在已经有不少的国产企业都有了自己的成就，无论是pc、手机还是移动终端，其中所使用到的芯片处理器都在慢慢的国产化。现在就连生产芯片的器材也正在逐渐的国产化，自主可控的的芯片生产流程将会大大提升国产芯片的精密度，更加的安全可靠。
另外，国产化的芯片仪器能够让技术核心牢牢的掌握在自己人的手中，不用再担心被卡住技术的喉咙，在国际化的市场净重也将会有更多的话语权。
