苹果新外观设计专利图疑被爆_屏下摄像头_或取消Face ID

放大字体  缩小字体 发布日期:2020-01-02  来源:来自互联网  作者:来自互联网  浏览次数:787
导读

日前,苹果公司的一项新专利申请文件被外媒曝光,其中的一些用户界面图显示,苹果未来的智能手机可能取消刘海,成为一个纯粹的“全面屏”。 外媒指出,随着新的专利疑似被曝光,很明显苹果正在尝试一些新的布局,它将放…

【环球网科技综合报道】据外媒消息,苹果公司预计将在今年推出多款iPhone。日前,苹果公司的一项新专利申请文件被外媒曝光,其中的一些用户界面图显示,苹果未来的智能手机可能取消刘海,成为一个纯粹的“全面屏”。

相关的专利信息显示,苹果新款智能手机将配备全新的前置摄像头,摄像头将会隐藏在屏幕之下,另外也会配置屏下指纹识别模块,这样就无须在手机前面板上设计人脸识别模块,从而可以做到方方正正的全面屏设计。

据悉,根据苹果的专利申请文件,草图中的设备是一款具有通信功能的电脑,另外苹果专利申请的重点是显示屏以及周边的一些设计。

除此之外,苹果已经在日本申请了三项有关外观设计的专利。从专利图中可以从看出,这次新的iPhone将采用无刘海屏的设计。而这项专利文档是由日本专利局(JPO)于2019年12月23日发布的。

外媒指出,随着新的专利疑似被曝光,很明显苹果正在尝试一些新的布局,它将放弃面部识别,新的iPhone设计将没有Face ID,反而是配备了屏下指纹传感器以及一个屏下摄像头。

不过外媒表示廉价的入门款iPhone 12可能无法实现这些设计。许多分析人士也提到,即将发布的2020款iPhone不会比之前的售价贵。

 
 
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